磁控溅射过程中，等离子体的离子撞击靶材，溅射出靶材的原子、原子团、离子、电子、光子等，原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。溅射发生在靶材表面，靶材表面物理状态不均匀也没有关系，溅射的时候会先溅射凸起，溅射时间长了，靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。溅射过程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质，所以如果...

磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的...

磁控溅射镀膜技术中,工艺参数对镀膜质量的影响非常大,涉及知识面广,变量多也是主要难题之一,本模块的内容呢就是每次分享一种工艺参数的学习心得,积少成多~本文介绍的是‘偏置电压’在镀膜过程中的影响.基础知识要分析衬底偏压对镀膜质量的影响,首先需要明白如下几点:(1)衬底偏压是什么,加在哪里?实质上很简单,衬底偏压就是在衬底...

磁控溅射法具有设备简单、镀膜面积大、基面升温缓慢以及成本相对较低的特点,在科研领域得到了广泛的应用,本文以作者浅薄理解为基础,磁控溅射镀膜技术为例,从以下几个方面带读者进行一个初步了解图片。1、涉及专业术语简介2、磁控溅射法原理简介3、微观分析磁控溅射法镀膜原理专业术语此处通俗介绍原理相关术语,方便后文理解.靶材与衬底...

偏压电源是在中空环境中电流离子镀，或者是在其他的真空与气相沉积设备中的一个相对而言地位比较重要的铸件，其在镀膜工艺流程中为工件提供一个偏压作用。而在真空离子镀膜的过程中，特别是对带电离子的镀膜作用，不管是工具镀还是装饰镀偏压电源，它的好坏往往决定了成膜的质量，起到了一个相当关键的作用，接下来临沂双成电源科技有限公司工作...