临沂双成电源科技有限公司

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磁控溅射薄膜厚度的均匀性是衡量薄膜形成性能的重要指标。因此，需要研究影响均匀性的因素，以便通过溅射获得更均匀的镀层。简单地说，溅射是在正交电磁场中，闭合磁场束缚电子在靶面上作螺旋运动。在运动过程中，工作气体不断受到冲击，大量氩离子被电离。在电场的作用下，氩离子加速靶材料的轰击，靶原子（或分子）被溅出并沉积...

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磁控气体放电开始溅射有三个条件　　1、它具有适合的放电气压P:DC或脉冲，如果是磁控管放电，约0.1pA~10Pa），典型值为5x10-1pA；射频磁控管放电约为10-1~10-2Pa。　　2、其次，磁控管靶具有一定水平（或等效水平）的磁场强度B（约10MT~100MT），典型值为30~50mt，较小值为...