磁控溅射系统的原理是电子在电场E的作用下飞向衬底的过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生ar正离子和新的电子。Ar离子在电场作用下向阴极靶加速，以高能轰击靶表面，从而溅射靶材。

    该技术包括许多类型。每种方法都有不同的工作原理和应用对象。然而，它们有一个共同点：磁场和电场之间的相互作用使电子围绕靶表面旋转，从而增加了电子撞击氩产生离子的可能性。产生的离子在电场的作用下撞击靶材表面，溅射靶材。

    磁控反应溅射绝缘体使用起来似乎很容易，但操作起来却很困难。主要问题是反应不只发生在零件表面，而且还发生在阳极、真腔表面和靶源表面，从而导致灭火、靶源和工件表面起弧。德国莱比锡发明的双靶技术很好地解决了这一问题。其原理是一对靶源是彼此的阴极和阳极，因此阳极表面被氧化或氮化。

    在450磁控溅射中，由于运动中的电子在磁场中受到洛伦兹力的作用，其运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径会增大，从而增加了与工作气体分子的碰撞次数和等离子体体积密度的增加，结果表明，该薄膜可以在较低的溅射电压和溅射压力下工作，减少了薄膜污染的趋势。

    在机械加工工业中，表面功能膜、超硬膜和自润滑滑动膜的表面沉积技术自诞生以来得到了较快的发展。可增加表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性。磁控溅射技术可以延长涂料产品的使用寿命。